在痕量分析中，超純水系統所制備的超純水質量對分析結果起着舉足輕重的影響。

20世紀50年代初期，電子學中半導體材料崛起，觀察到半導體的電性能與雜(zá)質含量有關。由于重金屬雜(zá)質具有電活性，嚴重降低單晶矽中載流子壽命，所以其含量需在1ng/g或0.1ng/g以下，測定雜(zá)質含量在10-6%—10-8%或更低。半導體材料使人們認識到痕量元素在超純材料中的重要性，從而開辟了痕量分析的新時代。

在進行痕量分析時，爲了達到最好的量化指标，兩個參數至關重要：實驗的環境以及稀釋标準液和洗滌玻璃器皿的超純水。目前，最常使用的超純水機在生産超純水過程中，電阻率測量以及可溶性矽、硼是(shì)評價樹(shù)脂效率最關鍵的參數。

用于痕量分析用水的超純水機包含一系列純化系統，主要由預處理單元、RO反滲透單元以及後置純化單元組成。和泰超純水機以自來水爲進水水源，每小時的産水達到15升，且産出的超純水指标爲：電阻率爲18.2MΩ.cm@25℃ ；TOC<3ppb；重金屬離(lí)子＜0.1ppb；微生物/細菌＜1CFU/ml；熱源/内毒素＜0.001EU/ml；顆粒物（＞0.22um）＜1/ml，其産出的超純水系統适用于痕量分析之中。

超純水機能夠有效的去(qù)除水中的硼、矽離(lí)子在内的所有粒子，顯示出了較高的離(lí)子截留率和穩定性。在最後的水純化單元，超純水機通過使用特殊設計的硼去(qù)除純化柱可以降低早期的硼穿透現(xiàn)象。這些技術的結合保證達到适合于ppt級、次ppt級痕量分析對超純水機生産的超純水的要求。